泄密2奈米技術！臺積電3內鬼工程師「供詞前後不一」　延押2個月

▲臺積電3內鬼工程師，左起戈一平、陳力銘、吳秉駿。（圖／記者呂佳賢攝）

記者黃哲民、劉人豪／臺北報導

從臺積電離職後到日商設備大廠工作的工程師陳力銘，勾結仍在臺積電的2名工程師吳秉駿、戈一平，大量翻拍2奈米制程機密，8月底被檢方依照違反《國家安全法》起訴。起訴後移審智財商業法院，法院裁定自9月1日起羈押3個月，由於羈押期即將屆滿，智慧財產及商業法院認爲3人曾供詞前後不一、湮滅證據，今（25）日裁定自12月1日起，延長羈押禁見2月。

臺積電內部調查出時任臺積電竹科廠吳姓2名工程師，勾結已離職的陳姓前工程師，違法取得屬於國家關鍵秘密技術的2奈米晶片製成技術機密，並泄漏給國外競爭對手，臺積電遂將仍在職的2人解職，並向臺高檢智財分署提出告訴，由智財分署檢察官指揮調查局新竹巿調查站、資訊安全工作站及北部機動工作站偵辦。

檢調自7月25至28日陸續傳喚、拘提陳男、吳男共3人及搜索住所，檢察官訊後認爲，陳男3人涉犯《國安法》、《營業秘密法》等罪嫌提起公訴。其中檢方對陳男具體求處有期徒刑14年，對吳男具體求處有期徒刑9年，對戈男具體求處有期徒刑7年。

由於羈押期即將屆滿，法院認爲3人雖坦承犯行，但對於所涉犯罪情節、手段、目的之供詞，確曾前後所述不一，且3人在案發後均有刪除通訊軟體對話紀錄之疑似湮滅證據舉措，而此類犯罪事實調查，需勾稽比對相關通訊軟體對話紀錄、電磁紀錄與共犯間供述，釐清確認全案犯罪細節，原羈押原因現仍存在，裁定自12月1日起，延長羈押禁見2月。