繞開DUV曝光技術！　大陸另闢蹊徑發展「奈米壓印」

▲奈米壓印。（圖／翻攝璞璘科技官網）

記者陳冠宇／綜合報導

受到美國壓制影響，大陸難以取得高階半導體曝光機。如今，大陸正另闢蹊徑，尋求發展「奈米壓印」來繞開DUV曝光技術。不過中短期內，EUV在先進邏輯晶片領域的主導地位都不會被動搖。

陸媒「觀察者網」報導，奈米壓印（nanoimprint lithography，NIL）的原理是不投射光線，直接壓印。把電路圖案刻在一塊模板上，像蓋章一樣壓到晶圓上，圖案就完成了轉移。

奈米壓印誕生於1995年，三十年來，行業主流覺得它的套刻精度不如曝光機，模板容易壞，污染物防不住。儲存在實驗室裡的樣機和論文，始終變不成產線上穩定運轉的設備。

先進邏輯晶片需要幾十層套刻，每一層都對準備上一層的奈米級座標，奈米壓印的物理接觸式對準備，天然達不到EUV那種光學對準備的精度。

在手機處理器這類邏輯晶片領域，奈米壓印目前還難以叩開大門。一臺CPU需要幾十層曝光和套刻，一個奈米級的錯位就足以報廢整顆晶片。奈米壓印的接觸式過程，稍有不慎就會引入顆粒缺陷。所以奈米壓印目前在先進邏輯晶片領域更多的是期待，而不是已經發生的現實。

深圳力策科技公司6月5日接收一臺璞璘科技的奈米壓印設備，全程不使用DUV曝光機，單片成本號稱是傳統DUV方案的十分之一，準備替換產線上本應存在的進口曝光機。

對力策科技接收設備一事，報導指出，真正的意義未必是某項指標多漂亮，而是第一次大陸實實在在回答了「奈米壓印能替代DUV嗎」問題；這不是靠推測，不是靠行業報告裡的預判，而是在一條真實的光晶片產線上，用一批交付出貨的晶圓來回答。

大陸奈米壓印目前擁有璞璘科技、青島天仁微納、蘇大維格等三個大玩家。賽迪顧問的數據顯示，2026年全球奈米壓印市場規模有望達到33億美元，2021至2026年的年複合成長率達17.74％。

報導稱，真正讓參與者感到興奮的變化是，在光晶片製造領域，奈米壓印的角色正在被悄悄重寫，它不再是一個爲了繞過曝光而存在的備選方案，而是開始被當作比曝光更具成本優勢的首選方案來用。

然而，對於整個大陸半導體裝備產業來說，奈米壓印的意義可能不在於它能多快取代EUV。至少在未來可見的時間內，EUV在先進邏輯晶片領域的主導地位都不會被動搖。報導指，真正重要的是，在大陸晶圓廠長期受制於曝光機進口的背景下，奈米壓印至少提供了一個「做得起、拿得到」的現實選項。